解读“我的中国芯”系列文章现已渐至佳境了，许多实际里的科研人员开端上台。
上篇咱们讲到中科院安徽光机所为02专项的DUV光刻光源开发的电源体系现已商用化，并且在2020年取得安徽省2019年度技能创造一等奖。所以这个事例的剖析仍是很有代表性的。
前文咱们罗列了安徽光机所开发的固化电源的原理图和美国Cymer的固化电源原理图。他们诞生的时刻前后差不多相差了20年。
Cymer的DYV光刻固化电源全称是“固态脉冲功率模块”，简写“SSPPM模块”，是上世纪1990年代开发的。自1995年起，Cymer出厂的简直一切的DUV光源都带固化电源模块。
跟着半导体光刻对光源输出功率和带宽操控要求 的进步，前期单腔体结构DUV准分子激光在功率和线宽方面不能统筹。因而，DUV光源固化电源模块在2002年迎来严重的更新，初次推出了MOPA体系的双腔模块XLA 100。十分简单就可以正常的看到它的电路图包含了2个操控区。
这种双腔固化电源简直是现在高频、高功率DUV光刻光源的标配，也正是02专项期间安徽光机所团队开发的项目。
正是根据XLA模块的迭代版别XLA 200，Cymer在2004年推出第一个用于45纳米浸没式光刻的光源。之后，Cymer又在2005年根据XLA 300完结业界首款193纳米ArF 6000 Hz光源。可谓一年一个台阶--也就是咱们常说的挤牙膏。可是，值得一提的是，这一年Cymer现已出货了第3000个准分子光源。
2009年，安徽光机所团队开发了脉冲能量5~8mJ的 ArF准分子激光器光源模块：
这个全固态脉冲电源输出电压调理规模10~14kV，输出脉冲能量0.35~0.68J。该电源驱动克己的 ArF准 分子激光头，作业气压0.6MPa，重复频率10Hz运转时取得的最大单脉冲能量为8.8mJ激光输出。
当然，此刻的电源模块只能完成10Hz的低频激光，所以尽管单脉冲可以到达8.8mJ，可是激光功率全体上很低。
当直流充电电压800V、作业频率1kHz时，它的放电脉冲上升时刻为90ns，脉冲电压为16.9kV，满意 ArF准分子激光器的泵浦要求。
方晓东研讨员的博士生朱能伟在2017年的中国科学技能大学博士学位论文《高重复率ArF准分子激光器的关键技能讨论研讨》里，就是采用了这个kHz单腔固态电源进行ArF准分子激光研讨的。
在单腔千赫兹固态电源模块基础上，安徽光机所科研人员开端研发更高频率的双腔固态电源模块。
双腔同步振动扩大技能的基本思想是使用MO种子腔取得窄线宽优质种子光，一般输出能量小，将种子光注入到PA扩大腔完成光能量扩大，取得窄线宽、大功率的优质激光束输出。双腔固态电源的引进大幅度的提升了准分子激光器材的输出功率。
因为DUV光刻光源是在千赫兹高频下运转，因而它对双腔放电的同步性要求有很高的要求，MO腔和PA腔放电同步差错小于需5ns。
安徽光机所团队获奖的首要双腔准分子激光电源体系和ArF激光相关专利宣布在2013-2015年。
那么这些技能的思路和立异点在哪里呢？其和美国Cymer的有关技能有什么根由呢？咱们下节持续聊！
